Дисилан (Si₂H₆)

Дисилан (Si₂H₆) — это бесцветный газ, используемый в электронной и полупроводниковой промышленности. Он служит важным компонентом в процессах эпитаксиального роста, способствуя образованию слоев кремний-германий (SiGe). Дисилан ценится за свою высокую реактивность и чистоту, что делает его подходящим для требовательных применений, где требуется точный контроль над свойствами материалов.